Технологія фізичного осадження з парової фази (Physical Vapor Deposition, PVD) стосується використання фізичних методів у вакуумних умовах для випаровування поверхні матеріалу (твердого або рідкого) на газоподібні атоми або молекули, або часткової іонізації на іони та проходження через газ низького тиску (або плазму). Процес - це технологія нанесення тонкої плівки зі спеціальною функцією на поверхню підкладки, а фізичне осадження з парової фази є однією з основних технологій обробки поверхні. Технологія покриття PVD (physical Vapor Deposition) в основному поділяється на три категорії: вакуумне випаровування, вакуумне напилення та вакуумне іонне покриття.
Наша продукція в основному використовується для термічного випаровування та напилення. Продукти, що використовуються для напилення з парової фази, включають вольфрамовий дріт, вольфрамові човники, молібденові човники та танталові човники. Продукти, що використовуються для електронно-променевого покриття, включають катодний вольфрамовий дріт, мідний тигель, вольфрамовий тигель та деталі для обробки молібдену. Продукти, що використовуються для напилення, включають титанові мішені, хромові мішені та титано-алюмінієві мішені.
